Fibra curta de aço inoxidável 316L ultrafina

Tipo de produto: fibras curtas de aço inoxidável 316L ultrafinas

Diâmetro da fibra: 1um/1,5um/2um disponível

Comprimento de corte: 80-100um

Composição química da matéria-prima ((Wt%))

Na fabricação de semicondutores, a manutenção de gases de processo de ultra-alta pureza é fundamental para evitar defeitos e garantir altos rendimentos.m os meios de filtragem metálicos desempenham um papel vital na purificação de gases, eliminando os contaminantes de partículas e contribuindo simultaneamente para o controlo da contaminação molecular atmosférica (CMA),que é essencial para a fabricação avançada de wafers.

Características e benefícios principais

Filtração de alta eficiência (1μm de retenção)

Captura partículas submicrônicas que podem causar defeitos nos processos de fotolitografia, gravação e deposição.

Reduz o risco de contaminação da superfície da bolacha, melhorando o rendimento.

Químicamente inerte e resistente à corrosão

Fabricados a partir de materiais de alta purezade aço inoxidável (316L), níquel ou ligas sinterizadaspara compatibilidade com gases agressivos (por exemplo, HF, HCl, NH3).

Resiste à desgaseificação, evitando contaminação adicional.

Capacidade de controlo AMC

Alguns filtros metálicos avançados incorporamTratamentos de superfície ou revestimentos(por exemplo, passivação, polir eletrónico) para minimizar a adsorção/dessorção de compostos orgânicos ou ácidos voláteis.

Ajuda a encontrarSEMI F21 AMC Classe 1requisitos para processos sensíveis como a litografia EUV.

Resistência a altas temperaturas e pressões

Desempenho estável em condições adversas (até 500°C ou superior para algumas ligas).

Adequado paraVDC, difusão e implantação de íonsAs linhas de gás.

Longa vida útil e limpeza

Reutilizável após limpeza (metodos ultrasônicos, químicos ou térmicos), reduzindo o custo de propriedade.

Projeto de queda de baixa pressão para fluxo de gás de eficiência energética.

Aplicações na fabricação de semicondutores

Fornecimento de gás de ultraalta pureza (UHP)(N2, Ar, H2, O2, etc.)

Processos de gravação e deposição(CVD, PVD, ALD)

Fotolitografia(Ambientes de VUE/DUV sensíveis à AMC)

Filtragem de gás a granel e filtragem no ponto de utilização (PoU)

Por que filtros metálicos em vez de alternativas?

Durabilidade superiorversus filtros poliméricos (que podem degradar e eliminar partículas).

Não há perda de fibrasao contrário dos filtros HEPA/ULPA tradicionais.

Melhor atenuação da AMCem comparação com os filtros de partículas normais.

Conformidade e normas

SEMI F20(Controlo de partículas)

SEMI F21(Classificação AMC)

A norma ISO 14644-1(Normas de salas limpas)

Conclusão

Medios de filtragem metálicos de 1 μmé uma solução robusta para purificação de gases semicondutores, combinandofiltragem de partículas, controlo de AMC e resistência químicapara satisfazer as exigências rigorosas da fabricação avançada de wafers.