Medios de filtragem metálicos de 1 μm para purificação de gases de processo de semicondutores --- Fabricação de wafers com controlo AMC

Tipo de produto: fibra curta de aço inoxidável 316L ultrafina

Diâmetro da fibra: 1um/1.5um/2um disponível

Comprimento de corte: 80-100um

Composição química da matéria-prima (Peso%)

Na fabricação de semicondutores, manter gases de processo de pureza ultra-alta é fundamental para evitar defeitos e garantir altos rendimentos. 1μm meios filtrantes de metal desempenham um papel vital na purificação de gás, removendo contaminantes particulados e também contribuindo para o controle de Contaminação Molecular Aerotransportada (AMC), o que é essencial para a fabricação avançada de wafers.

Principais Características e Benefícios

Filtragem de alta eficiência (retenção de 1μm)

Captura partículas submicronicas que podem causar defeitos em processos de fotolitografia, gravação e deposição.

Reduz o risco de contaminação da superfície do wafer, melhorando o rendimento.

Quimicamente inerte e resistente à corrosão

Feito de alta pureza aço inoxidável (316L), níquel ou ligas sinterizadas para compatibilidade com gases agressivos (por exemplo, HF, HCl, NH₃).

Resiste à liberação de gases, evitando contaminação adicional.

Capacidade de controle de AMC

Alguns filtros de metal avançados incorporam tratamentos de superfície ou revestimentos (por exemplo, passivação, eletropolimento) para minimizar a adsorção/dessorção de orgânicos voláteis ou ácidos.

Ajuda a atender SEMI F21 AMC Classe 1 requisitos para processos sensíveis como litografia EUV.

Resistência a alta temperatura e pressão

Desempenho estável em condições adversas (até 500°C ou superior para algumas ligas).

Adequado para CVD, difusão e implantação iônica linhas de gás.

Longa vida útil e capacidade de limpeza

Reutilizável após a limpeza (métodos ultrassônicos, químicos ou térmicos), reduzindo o custo de propriedade.

Design de baixa queda de pressão para fluxo de gás com eficiência energética.

Aplicações na fabricação de semicondutores

Fornecimento de gás de pureza ultra-alta (UHP) (N₂, Ar, H₂, O₂, etc.)

Processos de gravação e deposição (CVD, PVD, ALD)

Fotolitografia (ambientes EUV/DUV sensíveis a AMC)

Filtração de gás a granel e no ponto de uso (PoU)

Por que filtros de metal em vez de alternativas?

Durabilidade superior vs. filtros poliméricos (que podem degradar e liberar partículas).

Sem liberação de fibra ao contrário dos filtros HEPA/ULPA tradicionais.

Melhor mitigação de AMC em comparação com filtros de partículas padrão.

Conformidade e Padrões

SEMI F20 (Controle de Partículas)

SEMI F21 (Classificação AMC)

ISO 14644-1 (Padrões de Sala Limpa)

Conclusão

Meios filtrantes de metal de 1μm é uma solução robusta para purificação de gás de semicondutores, combinando filtragem de partículas, controle de AMC e resistência química para atender às exigências rigorosas da fabricação avançada de wafers.